ICP刻蚀

发现更多

Samco在研究和生产中提供了许多专用的电感耦合等离子体（ICP）蚀刻系统，以满足每个客户对高密度等离子体蚀刻的工艺要求。我们可靠、耐用和紧凑的ICP蚀刻系统使您能够处理各种材料（III-V化合物半导体（GaN、GaAs、InP）、硅、SiC、石英、玻璃、电介质和金属）。

发现更多

深硅蚀刻

发现更多

Samco是日本半导体工艺设备制造商中第一家获得博世工艺许可的公司。使用我们最新的Tornado ICP®专利技术和利用博世工艺，Samco的Si DRIE系统已被证明在研发和生产中的深层、垂直、高速Si深层蚀刻方面非常有效。

发现更多

反应离子刻蚀

发现更多

Samco为研发和生产客户提供可靠和耐用的反应离子蚀刻（RIE）系统。 台式紧凑型 RIE 蚀刻机是学术设备研究和 IC 故障分析的裸片去处理的合适工具。开放式负载RIE系统和负载锁定RIE系统具有宽广的工艺窗口，适用于各种材料（硅、电介质、化合物半导体、金属、聚合物和光刻胶）的等离子蚀刻。盒式装载RIE系统可提高器件制造的工艺产量。

发现更多

Request more information