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    Next-generation GaAs VCSEL Plasma Etch Process Technology

  2. 20 May 2020

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    Courtesy call on Dr. Rao, President of the Indian Institute of Technology, Delhi

  3. 15 May 2020

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    GaN Etching for MiniLED and MicroLED Applications

  4. 14 May 2020

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    New Etching and Deposition Approach for Trench Type SiC MOSFETs

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  1. 6 May 2021

    2021

    Next-generation GaAs VCSEL Plasma Etch Process Technology

  2. 15 May 2020

    2020

    GaN Etching for MiniLED and MicroLED Applications

  3. 14 May 2020

    2019

    New Etching and Deposition Approach for Trench Type SiC MOSFETs

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活动预告

  • CIOE2025(中国光博会)

    Date
    September 10 - 12, 2025
    Location
    Shenzhen World Exhibition and Convention Center, Shenzhen, China

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