原子层沉积设备

原子层沉积(ALD)是一种在原子尺度上沉积薄膜的技术,它利用样品表面与前驱体之间的化学反应进行顺序脉冲。与传统的PECVD技术相比,可以在沟槽和孔结构上实现高宽比的保形薄膜涂层。